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微型真空電弧爐

簡要描述:微型真空電弧爐 爐體全不銹鋼臥式設計,外形美觀大方,適用于高校及科研院所進行真空冶煉新材料的科研與小批量制備。可提高工、模具的使用壽命,無氧化、無脫炭、表面光亮、變形小、節省能源無公害,并改變機械性能和冶金性能等優點。

  • 產品型號:KDH-500Z
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2023-07-10
  • 訪  問  量: 1560

詳細介紹

  微型真空電弧爐
 
  產品特點
 
  1·爐體全不銹鋼設計,外形美觀大方
 
  2·采用立式側部開門結構,結構新穎
 
  3 .配置大口徑觀察窗,可實時觀察爐內的冶煉情況
 
  4·冶煉溫度高,純氯保護熔煉溫度高3500度以上滿足稀貴金屬及超高溫金屬材料的冶煉
 
  5·采用電弧熔煉專用的熔煉電源。功耗小
 
  6·采用桌面式設計,易操作
 
  7 配有操作模擬屏,控制數據直觀顯示,操作直觀簡潔
 
  8.高真空設計,真空室小可快速抽真空真空度可達5×10E-4Pa及以上,氬氣消耗少
 
  9.自帶冷水機,到貨即可使用。
 
  10.采用超溫保護和加裝濾光玻璃保護眼睛
 
  11.水冷銅電極可360度移動,操作靈活,同時水冷坩堝小巧可更換,可定制。
 
  微型真空電弧爐
 
  主要技術參數
 
  1、 設備電源總功率:20KW
 
  2、 電源電壓:380V、叁相、50Hz
 
  3、坩堝容量:30-50g(以鋼液)
 
  4、熔煉方式:真空+氣氛方式
 
  5、熔煉溫度:3000-3500℃
 
  6、電弧功率:17Kw;
 
  7、熔煉真空室尺寸:¢300*350
 
  8、電弧熔煉室:立式圓筒型真空室
 
  9、電弧熔煉電流:額定電流≤500A
 
  10、電弧熔煉坩堝: 單工位帶澆鑄
 
  11、工作氣體:Ar氣;
 
  12、電弧熔煉陰極裝置:引弧方式為高頻引弧
 
  氣體弧光放電表現為極間電壓很低,但通過氣體的電流卻很大,有耀眼的白光,弧區溫度很高(約5000k)。巨大的電流密度來自于陰極的熱電子發射,以及電子的自發射,即在陰極附近有正離子層,形成強大的電場,使陰極自動發射電子。大量電子在極間碰撞氣態分子使之電離,產生更大量的正離子和二次電子,在電場作用下,分別撞擊陰極和陽極,結果獲得高溫。陰極因電子發射用去部分能量,所以溫度低于陽極。極間也因部分正離子與電子復合放熱而產生高溫。電弧爐即是用這種原理熔煉金屬的工業爐.在真空環境下的電弧爐就是真空電弧爐.真空電弧熔煉采用大電流低電壓,屬于短弧操作,。一般電弧電壓為22~65V,對應弧長為20~50mm(后者為大錠)。從1839年熔煉白金絲實驗成功以來,在以后的一百多年人們開始研究難熔金屬的熔煉。1953年真空電弧爐才正式用到工業上。直到1956年,美國和歐洲許多國家還在用非自耗爐熔煉鈦,1955年開始用自耗爐煉鋼。1960年左右自耗爐生產的錠重已達30多噸,初具規模。目前發展的情況可以用美國康撒克公司制造的真空自耗爐為代表。為了提高生產率和設備的利用率,兩臺爐子共用一套主電源、真空系統和自動控制系統。
 

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