詳細介紹
1.實驗用小型真空燒結爐 設備用途
本系列真空爐為周期作業式,采用上開蓋結構桌面式設計、采用石墨管為發熱元件,適用于金屬材料,無機非金屬材料,在真空或保護氣氛下進行燒結適用,也可用于光學材料的燒結提純樣品測試分析等適用。
2.實驗用小型真空燒結爐 主要技術參數
3.1 電源:三相 380V 50Hz
3.2 加熱功率:4Kw ±10%(單相220V)
3.3 最高溫度:2000℃
3.4 額定溫度:0~1950℃
3.4 工作區尺寸:Φ40*40(D*H,mm)(實際工件擺放區)
3.5 控溫區數:一區
3.6 控溫方式:鎢錸熱偶控溫測溫
3.7 控溫精度:±1℃
3.8 冷態極限真空度:≤10Pa(空爐、冷態、烘烤除氣后)
3.9 充氣氣氛:惰性氣體
3.10 充氣壓力:≤0.05MPa
1. 結構及功能說明:
設備采用桌面式立式上開蓋結構,設備整體設計,操作高度適中,操作方便,設備主要有爐蓋、爐體,底座、真空系統、加熱系統、水冷系統、控制系統等組成。
6.1 爐蓋
爐蓋采用雙層不銹鋼(SUS304)水夾層平板結構,與法蘭組焊成一個整體。其中內壁精密拋光,外壁拉絲處理。爐門上設有冷卻水進出口、壓力表,放氣閥等快接接口。
6.2 爐體
爐體采用雙層不銹鋼(SUS304)水夾層架構,與上、下法蘭組焊成筒形結構,上下法蘭平面上開設有燕尾型密封槽,采用O型硅橡膠密封圈密封。爐內壁精密拋光,外壁拉絲處理。爐體側面設有冷卻水進出口、真空抽氣口、加熱電極接口,熱偶測溫接口等。
6.3 爐底
爐底采用雙層不銹鋼(SUS304)水夾層平板結構,與法蘭組焊成一個整體。其中內壁精密拋光,外壁拉絲處理。法蘭平面開設有燕尾型密封槽,采用O型硅橡膠密封圈密封。
6.4 爐架
爐架采用型材鈑金焊接作為骨架,并配合數控鈑金,組合成一個整體,作為整個設備的基礎。同時,一體式設計整齊美觀,操作方便。
6.5 加熱及隔熱系統
加熱采用高純石墨作發熱體,純度高,無揮發,有效保證爐腔內的清潔度。隔熱材料采用石墨成型纖維軟氈,保溫效果好,耐沖擊性好。整個隔熱屏采用金屬框架固定,便于安裝與維護。
溫度控制采用熱電偶直接控溫測溫。同時,在隔熱屏外設置一支監控熱電偶,監控隔熱屏外溫度,提高設備的安全使用性能。
6.6 真空系統
真空系統采用單級泵配置,由一臺VRD-16機械泵、手動高真空閥、充氣閥、放氣閥、真空壓力表、真空測量規管等組成,真空管道與泵的聯接采用金屬波紋管減緩震動,真空度的測量由真空計執行。
6.8 充放氣系統
本設備配置一路充放氣系統,由電磁閥、手閥、、接頭等組成,可對爐內氣氛壓力進行控制。手閥可以根據實際情況,適當調整氣體流量。排出的氣體客戶可結合實際情況進行處理。
6.9 水冷裝置
水冷系統由一臺進出水總管道、閥門及各支路組成。冷卻水由總進水總管進入后,經過各支管送到爐門、爐體、爐底、水冷電極、真空泵、冷阱等這些需要冷卻水的地方,然后匯總到出水總管排出。總進水管路設有電接點壓力表,具有斷水聲光報警并切斷電源功能。各支路水管采用透明塑膠軟管,通過不銹鋼接頭聯接進出水總管道及設備各進出水口。每路冷卻水進水管都裝有手動閥門,可手動調節水流量大小。
6.10 控制系統:
控制加熱系統有可控硅調壓器+低壓高流大功率變壓器+測溫裝置,組成閉環控制系統,溫度儀表采用程序儀表帶PID自動調節功能,帶自整定自我調整能力。穩定可靠,控制精度高。設備整體配有操作觸摸屏和PLC,溫度數據,真空數據可記錄可下載。
產品咨詢