微型真空甩帶爐介紹主要由加熱室、真空系統、控制系統三部分組成。其中,加熱室通常采用電阻式或電感式加熱方式,通過高溫爐芯將加熱管與加熱室隔離,從而實現加熱室內的恒定高溫。真空系統則包括真空泵、真空計、閥門等組件,可以實現對加熱室內的真空度進行精確控制。控制系統則負責監測和調節加熱室內的溫度、真空度等參數,以保證熱處理過程的穩定性和可靠性。
在使用微型真空甩帶爐進行工藝處理時,需要先將待處理材料放置在石英舟或陶瓷舟中,然后將舟載入加熱室內。接下來,打開真空系統,將加熱室內的氣體抽出,直到達到所需的真空度。最后,啟動加熱系統,將加熱室內的溫度升至所需的高溫,并在一定時間內進行保溫處理。完成處理后,關閉加熱系統,等待加熱室冷卻后再打開真空系統,取出處理好的材料。
真空甩帶爐主要應用于薄膜的制備、熱解和燒結等領域。例如,在光電子器件制備中,常用真空甩帶爐對金屬和半導體材料進行熱處理,以改善材料的電學性能和光學特性。在高分子材料領域,真空甩帶爐則可以用于烘干、熱解和燒結等工藝,以提高材料的密度和穩定性。
微型真空甩帶爐介紹特點
1·爐體全不銹鋼設計,外形美觀大方,不生銹。
2·采用立式側部開門結構,結構新穎,裝卸料方便,操作直觀。
3 .配置大口徑觀察窗,可實時觀察爐內的冶煉情況
3·冶煉溫度高,溫度可1700度以上,
4·采用專用IGBT高頻電源,,熔煉效果好。
5·采用兩級控制系統真空度高,可達5.0*10-3pa
6配有操作模擬屏,操作直觀簡潔
參數配置
1. 甩帶系統采用伺服電機控制,克服普通變頻電機抖動,電機轉速不穩的難題。
擴展性強,可增加噴鑄澆鑄功能
1.設備總功率:10Kw;
2.電源電壓:單相220V,50Hz
3.真空度:10Pa 5×10E-3Pa 6.7×10E-4Pa可選
4.設備容量:5-20g 感應熔煉容量50-200g
5.熔煉溫度0-1700 加石墨坩堝可達2100度以上
6·坩堝配置:石英坩堝 BN坩堝 石墨坩堝
7.真空泵組:飛越機械泵 機械泵+擴散泵 機械泵+分子泵 配置
8.甩帶銅滾尺寸:φ220mmx40(不帶水冷)
9.甩帶寬度: 1mm 6mm 10mm